NCID | BN00282815 |
タイトル | プロセスの基礎 / 西沢潤一編||プロセス ノ キソ |
出版者 | 東京 : 工業調査会 , 1983.8 |
形態 | 10, 394p : :挿図 ; 27cm |
注記 | 各章末: 参考文献 |
シリーズ名 | 半導体研究 ; 20[超LSI技術 ; 7]
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分類 | NDC8:549 NDLC:ND371 |
件名 | NDLSH:半導体
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著者情報 | 西澤, 潤一(1926-) (ニシザワ, ジュンイチ)
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和洋区分 | 和 |
標題言語 | 日本語 |
本文言語 | 日本語 |
出版国 | 日本 |
ISBN | 4769310323
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番号 | NBN : JP83052300 |