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書誌詳細
  

NCIDBA63513444
タイトルIV族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究 / 研究代表者 吉田貞史||IVゾク ハンドウタイ ノ キョクハク サンカマク ノ カイメン ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ
出版者[さいたま] : [吉田貞史] , 2003.3
形態1冊 ; 30cm
注記研究課題番号13450120
シリーズ名科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書 ; 平成13年度-平成14年度
著者情報吉田, 貞史 (ヨシダ, サダフミ)
和洋区分和
標題言語日本語
本文言語日本語,英語
出版国日本
番号OTHN : KAKEN:13450120
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巻号予約予約人数所在請求記号資料ID状態備考
1 0図書館(書庫)549.8:Y998005332 禁帯出  
0図書館(書庫)549.8:Y998005331 利用可  

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