| NCID | BN10527941 |
| タイトル | 光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著||ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン |
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 , 1994.3 |
| 形態 | 266p ; 21cm |
| 注記 | 執筆者: 西澤潤一ほか
章末: 参考文献 |
| 分類 | NDC8:549.8
NDC8:549 |
| 件名 | BSH:半導体
BSH:光化学
NDLSH:電子部品
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| 著者情報 | 高橋, 清(1934-) (タカハシ, キヨシ)
西澤, 潤一(1926-) (ニシザワ, ジュンイチ)
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| 和洋区分 | 和 |
| 標題言語 | 日本語 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 出版国 | 日本 |
| ISBN | 4769311222
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| 番号 | OTHN : JLA:94011032 |