検索条件入力書誌詳細 > 関連資料一覧:(本学所蔵)
関連資料一覧:(本学所蔵)
著者名典拠情報
NCIDDA04426092
名称(HDNG)吉田, 貞史||ヨシダ, サダフミ
生没年(DATE)1943
から見よ(SF)吉田, 貞史 (1943-)||ヨシダ, サダフミ
Yoshida, Sadafumi
Yosida, Sadafumi
注記(NOTE)通商産業省工業技術院電子技術総合研究所材料科学部量子材料研究室長,工学博士
「薄膜」(培風館,1990)の著者
出生地・出生年の追加は, 薄膜・光デバイス / 吉田貞史, 矢嶋弘義著(東京大学出版会, 1994.9)の奥付による
EDSRC:Silicon carbide and related materials 2001 : ICSCRM2001, proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2001, Tsukuba, Japan, October 28-November 2, 2001 / edited by S. Yoshida, ... [et al.](Trans Tech Publications,c2002)
選択行を:
11 件中の 1-1012
資料名所在
1電磁気・波動・熱 / 吉田貞史 [ほか] 執筆. -- 実教出版, 2006.10. -- (専門基礎ライブラリー ; . 基礎物理||キソ ブツリ ; 2).図書館(閲覧室) 420:Y
2薄膜 / 吉田貞史著. -- 培風館, 1990.6. -- (応用物理工学選書 ; 3).図書館(閲覧室) 431.8:Y
図書館(シラバス) 431.8:Y
3薄膜・光デバイス / 吉田貞史, 矢嶋弘義著. -- 東京大学出版会, 1994.9.図書館(書庫) 549.8:Y
4SiC素子の基礎と応用 / 荒井和雄, 吉田貞史共編. -- オーム社, 2003.3.図書館(閲覧室) 549.8:A
5薄膜工学 / 白木靖寛, 吉田貞史編著. -- 丸善, 2003.3.図書館(閲覧室) 549.8:Ki
図書館(シラバス) 549.8:Ki
6薄膜ハンドブック / 日本学術振興会薄膜第131委員会編. -- 第2版. -- オーム社, 2008.3.図書館(参考図書) 549:N
7IV族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究 / 研究代表者 吉田貞史. -- [吉田貞史], 2003.3. -- (科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書 ; 平成13年度-平成14年度).図書館(書庫) 549.8:Y
8電気数学 / 吉田貞史 [ほか] 執筆. -- 実教出版, 2008.9. -- (専門基礎ライブラリー).図書館(閲覧室) 541.2:Y
図書館(書庫) 541.2:Y
9薄膜工学 / 吉田貞史, 近藤高志編著. -- 第2版. -- 丸善出版, 2011.6.図書館(閲覧室) 549.8:Y
図書館(書庫) 549.8:Y
10薄膜の評価技術ハンドブック / 吉田貞史編集委員長. -- テクノシステム, 2013.1.図書館(参考図書) 549.8:Y
11 件中の 1-1012
選択行を