| NCID | DA0549966X |
| 名称(HDNG) | 平尾, 孝||ヒラオ, タカシ |
| から見よ(SF) | Hirao, Takashi |
| 注記(NOTE) | 博士論文 Studies on structural properties of silicon-based insulator films prepared by plasma processings, 1989
金沢大学大学院自然科学研究科
松下電気産業(株)中央研究所(1992年4月現在)
EDSRC:薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー / 平尾孝〔ほか〕共著(工業調査会, 1997.7) |