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関連資料一覧:(本学所蔵)
著者名典拠情報
NCID
DA00241925
名称(HDNG)
古川, 静二郎(1934-)||フルカワ, セイジロウ
生没年(DATE)
1934
注記(NOTE)
東京工業大学
ULSIプロセスの基礎技術, 1991: 執筆者一覧
半導体デバイス
EDSRC:電子デバイス工学 / 古川静二郎, 荻田陽一郎, 浅野種正共著(森北出版, 1990.3): 奥付の記述(函館市生)によるPLACEの追加。
図書(9件)
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20件
50件
資料名
所在
1
電子デバイス / 古川静二郎, 松村正清共著 ; 1, 2. -- 昭晃堂, 1979.11-1980.
図書館(閲覧室)
549.8:H
2
半導体デバイス / 古川静二郎執筆. -- コロナ社, 1982.10. -- (電子情報通信学会大学シリーズ / 電子情報通信学会編 ; E-1).
図書館(閲覧室)
549.8:H
理物理学
549.8:H
3
超微細加工入門 / 古川静二郎, 浅野種正共著. -- オーム社, 1989.6.
図書館(書庫)
549.7:Ty
4
ULSIプロセスの基礎技術 / 古川静二郎編 ; 石原健 [ほか] 共著. -- 丸善, 1991.3. -- (Maruzen advanced technology / 菅野卓雄 [ほか] 編集 ; . 材料工学編 / 堂山昌男 [ほか] 編||ザイリョウ コウガクヘン ; M08).
図書館(閲覧室)
549.7:H
5
電子デバイス工学 / 古川静二郎, 荻田陽一郎, 浅野種正共著. -- 森北出版, 1990.3. -- (基礎電気・電子工学シリーズ / 西巻正郎, 関口利男編集 ; 6).
図書館(書庫)
549.8:H
6
SOI構造形成技術 / 古川静二郎編著. -- 産業図書, 1987.10. -- (集積回路プロセス技術シリーズ).
図書館(閲覧室)
549.7:S
7
シリコン系ヘテロデバイス / 古川静二郎, 雨宮好仁編著. -- 丸善, 1991.7.
図書館(閲覧室)
549.8:H
8
半導体デバイス / 古川静二郎執筆. -- コロナ社, 1982.10. -- (電子通信学会大学シリーズ / 電子通信学会編 ; E-1).
図書館(閲覧室)
549.8:H
図書館(書庫)
549.8:H
9
電子デバイス工学 / 古川静二郎, 荻田陽一郎, 浅野種正共著. -- 第2版. -- 森北出版, 2014.1.
図書館(閲覧室)
549.8:H
図書館(書庫)
549.8:H
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