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関連資料一覧:(本学所蔵)
著者名典拠情報
NCID
DA12096936
名称(HDNG)
中村, 正秋(1942-)||ナカムラ, マサアキ
生没年(DATE)
1942-
注記(NOTE)
名古屋大学大学院工学研究科(分子化学工学専攻)教授 SRC:地熱水の高度エネルギー利用とシリカスケール発生防止 / 中村正秋著([出版者不明], 1999.3)の表紙による
図書(3件)
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資料名
所在
1
移動層工学 : 実際と基礎 / 篠原邦夫, 高橋洋志, 中村正秋編著. -- 北海道大学図書刊行会, 2000.12.
図書館(閲覧室)
571:Si
2
はじめての乾燥技術 / 中村正秋, 立元雄治著. -- 日刊工業新聞社, 2011.7.
図書館(閲覧室)
571.6:N
3
初歩から学ぶ乾燥技術 / 中村正秋, 立元雄治著. -- 丸善出版, 2011.4.
図書館(閲覧室)
571.6:N
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