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関連資料一覧:(本学所蔵)
著者名典拠情報
NCID
DA08682006
名称(HDNG)
白川, 二||シラカワ, ツグル
から見よ(SF)
Shirakawa, T.
注記(NOTE)
SRC:化合物半導体 : プロセスと化学 / 白川二ほか著(大日本図書, 1994.6): 奥付(しらかわつぐる、基盤技術研究所所長、専攻:半導体物性、工学博士、Shirakawa T.)
図書(1件)
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資料名
所在
1
化合物半導体 : プロセスと化学 / 白川二 [ほか] 著. -- 大日本図書, 1994.6. -- (新産業化学シリーズ / 日本化学会編).
図書館(閲覧室)
549.8:Si
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